压力控制阀
CBV系列型智能流导控制阀是泵端压力控制系统的核心单元，集成了蝶形流导阀门、测量电路、闭环控制器、通信和阀门驱动电路。
Learn more北京捷造光电技术有限公司
产 品
部件产品
捷造的专用核心部件和仪器，广泛应用于光伏和半导体设备，用于解决工艺制程中核心操作，这些部件包含等离子体发生、溅射阴极、蒸发源、压力控制阀、门阀、真空机械手、膜厚测量仪等。
传输阀
紧凑型高真空传输阀，用于产线Load/Lock和隔离通道。
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离子源和离子枪
空心阴极和热阴极离子源，最大电流50-150A，中低压工作电压，可用于离子束加热、反应离子辅助沉积等工艺制程
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磁控溅射阴极
靶材2英寸-4英寸的标准磁控溅射阴极，超高真空、可调节的磁场平衡和强度，DC/RF兼容，可用于溅射和共溅射系统
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旋转阴极驱动
长寿命大功率旋转阴极驱动端，侧装和吊装结构，陶瓷水密封，大面积浮动电刷，最大功率60kVA或驱动2.5米靶材。用于GW级光伏PVD产线。
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共蒸发源
安装于标准450平台的的多蒸发源共沉积模块，2-6个独立蒸发源，独立气动挡板，直流闭环电流控制。用于OLED/钙钛矿材料研究。
Learn more研发设备
大学实验室、科研机构、企业材料实验室常用薄膜沉积设备，主要有6-12英寸PECVD、450标准平台PVD等实验装备。
JPE系列6"-12"PECVD
单室/多室全自动PECVD平台，工件6-12英寸标准硅片，集成气路柜、真空机械手传输、氮气封闭环境片盒。
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JSP系列300mm PVD
小型Inline PVD，单端/双端接口，兼容平面溅射阴极和空心阴极离子镀
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HCD450空心阴极离子镀
钙钛矿背电极TCO低损伤解决方案，反应沉积优质金属氧化物
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