实验室工艺设备
单室/多室全自动PECVD平台，工件6-12英寸标准硅片，集成气路柜、真空机械手传输、氮气封闭环境片盒。
Learn more北京捷造光电技术有限公司
关于我们
致力于光伏和半导体装备技术的投资、开发、应用和推广
公司简介
北京捷造光电技术有限公司成立于2010年，位于北京亦庄经济技术开发区，公司面向光伏和半导体领域开发和推广薄膜沉积工艺装备技术，其中包括在PVD（磁控溅射、有机及金属共蒸发、反应离子沉积等）、CVD（PECVD、LPCVD等）和ALD原子层沉积等薄膜工艺设备。
公司开发的的专用部件和仪器，应用于光伏和半导体工艺设备，解决工艺制程中核心操作，这些部件包含等离子体发生、溅射阴极、蒸发源、压力控制阀、门阀、真空机械手、膜厚测量仪等。
我们的技术和服务
我们为大学实验室、科研机构、企业材料实验室提供标准6-12英寸PECVD、PVD等实验装备方案；为生产企业提供量产PECVD、PVD以及核心部件的技术解决方案。
量产设备技术
产能可达12000-24000pcs/h的量产PECVD和PVD产线，兼容M6-M12整片/半片的HJT电池产线
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