HCPD 系列离子镀系统

HCPD系列离子镀

HCPD450空心阴极离子镀

HCPD450空心阴极离子镀

采用450平台的经济型离子镀设备,前门配置滑动门连接手套箱,后平开门方便维护保养,设备简单易用,适合学校研究机构进行材料研究和开发,也是钙钛矿背电极 TCO 低损伤实验室解决方案,可以反应生长优质金属氧化物。

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HCPD500空心阴极离子镀

HCPD500空心阴极离子镀

适合更大工件尺寸和沉积要求的离子镀设备,前门配置滑动门连接手套箱,后平开门方便维护保养,设备有更多的选项部件。适合中式产品验证和工艺调试,是钙钛矿背电极 TCO 低损伤实验室解决方案,可以反应生长优质金属氧化物。

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